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X射线显微镜 ZEISS Xradia 510 Versa

蔡司 Xradia 510 Versa 凭借其突破性技术和高分辨率探测器,将 3D X 射线显微镜 ( XRM ) 的性能提升至新的高 度,为各种尺寸的样品提供亚微米级成像解决方案。通过其世界领先的分辨率、衬度和灵活的工作距离以及 行业领先的原位/4D 解决方案的强大组合,有力拓展了非破坏性的实验室成像能力。


蔡司 Xradia 510 Versa ——灵活、创新、非破坏性


用途广泛的 X 射线显微镜(XRM)


使用非破坏性的 X 射线成像保护并延长了有价值的样 品的使用时间。Xradia 510 Versa 充分发挥了 X 射线显 微镜(XRM)的性能,能够为各种不同的样品和研究 环境提供灵活的 3D 成像解决方案。


Xradia 510 Versa 拥有高达 0.7 μm 的真实空间分辨率,  体素大小低至 70 nm ,将接近同步辐射技术水平的成 像性能扩展到了世界各地的重要实验室。结合先进的吸 收衬度技术和适用于软材料或低原子序数材料的创新相 位衬度技术,Xradia 510 Versa 的通用性得到提升,以 至能够突破传统计算机断层扫描方法的局限性。




超越微米 CT 的性能


蔡司 Xradia 510 Versa 系列解决方案使科学研究突破了 基于投影的微米 CT 和纳米 CT 系统的限制。传统断层 扫描依赖于单级几何放大,而 Xradia 510 Versa 依靠同 步辐射技术水平的光学器件,采用了蔡司独特的两级 放大技术。


多尺度范围成像功能可以对同—样品进行大范围的多 倍率成像。在繁忙的实验室工作中,所有科研人员都 可以方便操作 Xradia 510 Versa。




卓越的 4D / 原位解决方案


非破坏性的 X 射线显微镜对原位状态下的材料微结构以 及特征随时间的演化(4D)进行独特的表征。


依托蔡司的 RaaD 功能,Xradia 510 Versa 对原位状态下 高精度原位台中的各种尺寸的样品都保持亚微米级分辨 率。Xradia 510 Versa 原位分析套件通过优化设置和操 作, 实现了高易用性,同时缩短了获得结果的时间。




实现真实的空间分辨率


Xradia Versa 解决方案提供强大的 3D X 射线成像,在各种工作距离、样品尺寸和环境下保持真正的亚微米级空 间分辨率。蔡司 X 射线显微镜使用显微镜性能最具意义的衡量指标—真正的空间分辨率。


空间分辨率指的是成像系统的最小可分辨线对。其测量方法通常是使用带有尺寸逐渐减小的多组线对的分辨率标样进行成像。空间分辨率反映关键特征,例如 X 射线光源点尺寸、探测器分辨率、几何放大率及振动、 电子和热稳定性。其它术语(例如“体素”、“束斑大小”、“细节可探测性”、“标称分辨率”)不能反映整体系统性能。


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衬度优势

现代化成像需要通过优越的衬度性能来实现可视化和定量化分析,从而揭示材料的内部特征。Xradia Versa 甚至可以为最具挑战性的材料提供灵活的高衬度成像,包括低原子序数材料、软组织、聚合物、包裹在琥珀中的化 石生物以及其它低衬度材料。

Xradia Versa 采用拥有专利的多个“增强吸收衬度探测器”组成的探测系统,通过最大化地吸收低能光子,同时最 小化地吸收降低图像衬度的高能光子,得到卓越的衬度。此外,可调的传播相位衬度技术通过测量被材料折射的X 射线光子,能够显示出那些吸收衬度很低甚至没有吸收衬度的特征。